带状线小室是测量芯片辐射发射和抗扰度的重要设备，小室的频带、均匀场区域决定了待测芯片的最高频率及尺寸。为适应芯片产业的电磁兼容测量需要，文章基于国内外资料调研和课题组的研究成果，分析了带状线小室的结构、原理，综述了带状线小室的研究现状，并介绍了内导体开缝或偏置、内置吸波材料以拓展小室场均匀区、提高截止频率、避免谐振等优化方法，指出当下带状线小室后续的探索方向在于降低插入损耗及提升各类优化算法的仿真效率。

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