TEM 小室法和 IC 带状线法是目前集成电路辐射发射测试中的两种典型方法，测试方法的选用和对测试结果的处理是两种测试方法易混乱之处。基于两种测试方法的原理，分析了测试结果关联关系、IC 高度和电压驻波比对测试结果的影响。测试数据表明，两种测试方法归一化后的测试结果基本一致，IC 高度和电压驻波比对两种测试方法的测试结果有不同程度的影响，最后给出两种测试方法的选用建议。研究结果可为制造商、测试机构及用户等相关人员提供参考，有利于集成电路辐射发射性能评估的一致性。

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